KQ-W210适用于洁净厂房，局部洁净环境的气流流型摄像及录影。$n根据ISO14644-3 及新版GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。KQ-W210烟雾发生器可以产生高浓度水蒸气（粒径范围：1-10um 集中度80%以上），高可见度及绝对无污染。当水蒸气在洁净室内散发后，没有可测的残留物质。KQ-W210广泛应用于半导体，制药类洁净车间。

KQ-W210制药气流流型测试仪适用于洁净厂房，局部洁净环境的气流流型摄像及录影。$n根据ISO14644-3 及新版GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。KQ-W210烟雾发生器可以产生高浓度水蒸气（粒径范围：1-10um 集中度80%以上），高可见度及绝对无污染。当水蒸气在洁净室内散发后，没有可测的残留物质。KQ-W210广泛应用于半导体，制药类洁净车间。

KQ-W210纯水雾气流流型测试仪适用于洁净厂房，局部洁净环境的气流流型摄像及录影。$n根据ISO14644-3 及新版GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。KQ-W210烟雾发生器可以产生高浓度水蒸气（粒径范围：1-10um 集中度80%以上），高可见度及绝对无污染。当水蒸气在洁净室内散发后，没有可测的残留物质。KQ-W210广泛应用于半导体，制药类洁净车间。

KQ-W210气流流型测试仪适用于洁净厂房，局部洁净环境的气流流型摄像及录影。$n根据ISO14644-3 及新版GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。KQ-W210烟雾发生器可以产生高浓度水蒸气（粒径范围：1-10um 集中度80%以上），高可见度及绝对无污染。当水蒸气在洁净室内散发后，没有可测的残留物质。KQ-W210广泛应用于半导体，制药类洁净车间。

KQ-W210药厂气流烟雾发生器适用于洁净厂房，局部洁净环境的气流流型摄像及录影。$n根据ISO14644-3 及新版GMP对洁净厂房验收需要对气流方向进行评价。KQ-W210烟雾发生器可以产生高浓度水蒸气（粒径范围：1-10um 集中度80%以上），高可见度及绝对无污染。当水蒸气在洁净室内散发后，没有可测的残留物质。KQ-W210广泛应用于半导体，制药类洁净车间。